文章摘要:以4,4′-二氨基二苯醚（ODA）为二胺，均苯四甲酸二酐（PMDA）为二酐，不同类型分散剂进行表面处理后的炭黑为遮光填料，制备了一系列黑色聚酰亚胺（PI）薄膜，探讨分散剂对炭黑/PI薄膜的表面形貌和性能的影响。结果表明：经分散剂表面处理后的炭黑在PI基体中的分散性及有机-无机的界面相容性得到提升，降低了炭黑团聚程度，提高了薄膜的性能；当采用YK-3（改性嵌段聚合物）分散剂处理炭黑时，薄膜的表面形貌和性能最佳，其电气强度、拉伸强度、断裂伸长率分别为145 kV/mm、146 MPa、38%，光透过率接近0。

文章关键词:黑色聚酰亚胺薄膜,炭黑,分散剂,透过率,

论文作者:刘含茂 刘杰 刘婷 胡峰 江乾 刘亦武 

作者单位:株洲时代新材料科技股份有限公司 

论文分类号: TB383.2

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